技术的加持，所以才能让asml的发展如此迅速，全球第一个拿出了沉浸式euv光刻机，领先市场。”
“我们国家的光刻机想要超过达到世界一流水平，就必须要从这些配件一个个地开始突破，只有这样，才能达到这个水平。”
“这是我们跟在asml后面发展，想要追赶上来的唯一办法。”
“如果这么做的话，根据我的估计，最低也需要十五年才能追赶上来。”
“但如果是我们换一种思维呢！”
“asml把光刻机做的这么小，所以它才需要这么多高端的设备和仪器。”
“它之所以做小，是为了可以出口售卖，卖给芯片厂商，为了方便运输，为了方便搬运。”
“但如果我们抛弃运输，售卖的想法呢。”
“直接把小小的一个光刻机变成一座光刻工厂，这样一来，就能避开光刻机的很多技术要求了。”
“起码，这么做的话，我们就未必需要最尖端的技术来组装。”
“同时，一台光刻机每天二十四小时工作下来，生产出来的合格芯片，也只有几万枚而已。”
“但是，如果由光刻工厂来生产的话，生产效率能在光刻机的基础上翻上最低十倍之多。”
沈总管并没有因为王东来说出来的这么多优势而兴奋，依旧保持着冷静。
“你说的都是优点，我想半导体领域应该也有人能想到这一点，但是却没有人这么做，也没有这样的尝试，这里面肯定还是存在着一些问题。”
“从目前的情况来看，应该是坏处多于好处，所以你说的光刻工厂可行性暂且不说，你如何能证明它建造完成之后，可以超过光刻机。”
听到沈总管指出这个问题，王东来脸上浮现出一丝笑意。
“领导，您说的确实是一个很重要的问题。”
“关于这一点，我也可以做一个简单的解释。”
“光刻机也存在优点和缺点，它的缺点是光源相干性极差，使用反射镜滤光单镜光源损耗率30％，总损耗98％，asml使用的反射镜全世界只有蔡司能够生产。”
“第二，光刻机的锡污染以及光路散热工程造成易损件成本增加，高na升级到600瓦光源功率，使得整机成本增加到四倍。”
“第三，光刻机的生产效率低下，以3400b来说，该euv光刻机的生产效率是每小时125片晶圆，还不到duv光刻机生产效率的一半，毫