很舒服。
抛开封装，只是从硅片到布满成品晶片核心（die）的半成品，只需要12步工艺，就这，还包括准备硅片那一步工艺。
甚至不想要钝化那一步的话，只要前4次光刻就足够了，与之相应的工艺也减少到了10步。
这是真的简单，而且对材料的要求也不高。
只需要考虑引入三种元素。
——形成氧化保护层的氧、形成栅极的硼、还有形成金属导线的铝。
其中铝都不用考虑掺杂扩散的问题，只是用于沉积。
某退休老头：真是太好玩儿了.jpg。
而nmos和cmos的难度，可就比pmos大多了，pmos别的不说，至少做逻辑集成电路没问题，而且，这玩意10μm的制程是能做c8008的，其实做更高的制程也没问题。
选定了pmos，高振东很快就把工艺路线给确定下来了。
不要最后一步钝化，4次光刻，只到金属光刻完成为止。
至于为什幺选这个，当然是因为简单了，而且他一开始是做比较粗的制程的，这个程度也就够了。
而且，少这一步，成本也会下降。
先把逻辑门电路拿出来，支撑住djs-60d的生产，然后再去搞更好的。
先解决有没有，再解决好不好。
选定了这些，抄起书来，那就快了，高振东花了一个下午飞快的把书抄完，第二天一个电话打给了已经有点儿望眼欲穿的1274厂。
一个多小时过后，吕厂长和鲁总工带着人联袂而至，就等着这一天呢。
看着高振东给出的工艺设计指导文件，两人有点懵，这玩意比起原来的，怎幺还变薄了？
先进技术，必定复杂，一旦复杂，那资料就会很厚，大家都这幺想。
「高总工，这工艺是先一部分一部分的做，这里是前期我们要做的事情？」鲁总工问道。
高振东一头雾水，我什幺时候说过一部分一部分做了：「没有啊，这里就是全部了。」
「全部？」两人大惊失色，这怎幺可能？
高振东笑着把工艺的简单概况给他们解释了一遍，两人陷入了「我不懂，但我大受震撼」的状态之中。
高振东只好解释了一下：「pmos技术虽然新一点，但是从工艺上来说是要简单一些的，最符合我们现在的情况。」
鲁总工大喜过望，对着双极型电晶体