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第1581章 撕胶带恐怕行不通了(3 / 4)

更多攀登的路径,但山,依然在那里。」

「……」

……

两天后,栗亚波带着自己的笔记本电脑,敲开了常浩南办公室的门。

脸上挂着黑眼圈,但精神不错。

显然是有所收获。

「老师,我按之前的思路,用『过饱和沉积-可控退火修复』法进行了几轮尝试。」他将电脑交给常浩南屏幕上显示的果然是一份报告文件,「这是其中效果最好一批样品的测试结果。」

常浩南双指在触摸板上滑动,很快找到了mta-01的三维成像结果。

图像中,原子排列整齐有序,宛如用最精密的尺子画出的网格,只在极少区域存在细微的位错或空位。apt的三维点云也显示出极高的空间有序度。

「基底表面形成蜂窝状晶格,原子阵列的规整度非常不错。」常浩南给出评价,「缺陷密度……」

他继续下翻,然后看到了1.7%的数字:

「也很低,大部分区域都接近理论上的完美结构,看来退火工艺和基底预处理算是找对方向了。」

说完之后,又重新审视了一遍报告上的图像和数据,接着总结道:「单从结构完整性看,这比我们之前观测到的任何一批样品都要好……」

滑动触摸板的动作停下。

因为报告已经到了结尾。

篇幅比他预期中短了很多。

「光学性能测试呢?」常浩南确认自己没有漏看什幺部分,「负折射性质的表现如何?稳定性呢?」

「呃……」栗亚波脸上的笑容瞬间凝固,换上了一副哭笑不得的尴尬表情:「样品制成薄膜之后几乎是纯黑色的,对可见光和近红外的吸收率都高得离谱……根本就测不到有效的透射光信号,更别提负折射了……」

常浩南也是一愣,随即哑然失笑。

这倒是一个典型的科研小插曲——追求某一个性能到了极致,却忘了最初的目标。

大家多少都遭遇过类似情况,倒是没必要过分苛责什幺。

更何况,合成路线上的进步是实打实的。

他重新拿起报告,目光聚焦在那些微观结构图像上。

特别是原子阵列的排布方式和基底材料的界面状态。

办公室内陷入了短暂的沉默,只有纸张翻动的细微声响。

栗亚波有些忐忑地看着陷入深思的导师。

时间一分一秒过去。

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