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第221章 面向世界宣布(2 / 6)

,连忙开口谦逊回应。

「我们工作就先从极紫外光源开始,不过关于其中涉及到的物理现象,还需要更加细致的进行推导,等理论工作足够成熟后再开展实验。」

毫无总设计师的架子。

他这话倒没乱讲,更不是故意拖延时间。

藉助等离激元耦合态理论,提出一种全新的极紫外光源获取技术,本就是他猛然间意识到的设想,要不是昨天晚上海外突然签署那份半导体限制文件,导致国内面临高端晶片制造困境,这才被杨老临时拉来研讨会讲述,大概率还要深入研究一段时间,才会正式开展实验验证工作。

最大程度避免过多的试错成本。

贺鹏涛和丁顺安两人,虽心里面迫不及待,但毕竟都早已入选院士。

在丰富经验下,深知前期准备工作的重要性。

否则贸然开展实验,白白浪费时间精力不说,还有可能影响项目进展。

「那我们先进行实验准备,省的到时候耽误时间。」

最终微笑着丢出这句话,方转身暂时离开,回各自所在的光机所安排任务。

参加了整整一天的研讨会议,眼下终于结束,以他们的年龄相对来说还是比较疲惫的。

把这幕看在眼里的科学院院长余高远,待收回目光后也终于长松了口气。

决定让徐铭担任总设计师,部分原因是因为,徐铭本来就主导过重点项目,只不过大部分信息,都暂时处于未解密的状态不为人知。

刚开始他还天担心会有人提出不满,影响国产光刻机的研发进展。

现在看到连最有资格出任总设计师的,贺鹏涛以及丁顺安这两位院士,都对徐铭的工作如此支持迫不及待。

自然不会再忧虑什幺。

心底里不得不感叹,这就是顶级天才的人格魅力吗?

余高远倒也没有在此事上纠结太多,很快回过神又像是突然想到什幺,忙又看向身旁的徐铭主动搭话。

「对了。」

「还有一件事,需要提前同你说一下。」

「余院长请讲。」徐铭沉声回应。

「是这样的,对于整合相关技术资源,成立国产高端光刻机研发专项,并且任命你为项目的总设计师,国家会将这些面向外界进行公布。」余高远简单组织下语言,下秒便讲起自己知道的另外一件正事。

闻言徐铭并无多大反应。

就算他从早上前往箐华高等研究院

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