突然他想到了什么，眉头的喜悦又被一丝阴霾所取代：“但是，卫总，即便有了周宇教授的理论和量子计算机的模擬，我们仍然面临一个巨大的、绕不开的难题，那就是高精度的光刻机！”
郭辉的语气沉重起来：“超导量子晶片的製造，对微纳加工精度有著近乎苛刻的要求，如果量子晶片需要实现超高密度集成，比如在一个晶片上集成数千甚至上万个量子比特，电路尺寸需要显著缩小，例如接近亚100nm甚至更小，那么euv光刻必不可少。”
“套刻精度是光刻机在量子晶片製造中极其重要的性能指標。”
“不同层图案之间的对准误差必须控制在非常小的范围內，例如<10nm甚至更低，以確保量子比特的性能，像是频率、耦合强度符合设计预期，保证大规模集成的可行性。”
“目前的国產光刻机，距离euv技术仍有差距。我们能製造的晶片线宽，和国际顶尖水平还有显著的代差。”
“要实现百比特甚至千比特级量子晶片的稳定生產，我们需要能够刻蚀小於10纳米特徵尺寸的光刻机。这就像我们已经有了最精妙的图纸和最先进的材料，但却缺少那支能画出神来之笔的笔尖。”
“没有euv光刻机，或者至少是接近euv级別的高端浸入式duv光刻机，我们即使有了再完美的量子晶片设计方案，也无法將其精確地製造出来。”
“这会直接制约我们超导量子晶片的良品率和最终的集成规模。”
郭辉的语气中充满了无奈，这个技术瓶颈，是横亘在所有龙国半导体人面前的一座大山。
现在，这种大山显然没有办法移开。
卫宏深吸一口气，努力保持镇定。
他当然知道光刻机是卡脖子的老大难问题，这些年，国家在这上面投入的钱，都快能把太平洋填平了，可euv光刻机这玩意儿，就像个傲娇的大小姐，怎么哄都不肯跟你回家。
光机所確实是在努力突破euv光刻机技术，研发团队日夜兼程，比谁熬夜加班还猛，
简直就是住在实验室里了，但成果什么时候能拿出来，这真不好说。
他总不能指望它像周宇的量子计算机一样，“刷』地一下就变出来吧？
想在光刻机上实现弯道超车？那简直是痴人说梦！
这玩意儿就是一条笔直笔直的高速公路，你得一步一个脚印地走，人家在前面跑得飞快，我们能不被甩得