第232章 野心初现，和国际顶尖的差距
“目前，干法刻蚀工艺主要是离子铣刻蚀、等离子刻蚀和反应离子刻蚀三种方案。”
“而这三种方案，离子铣刻蚀最为简单，可控性也比较高，技术成熟度也很高，相关的专利其实也已经被申请的差不多了，想要弯道超车，避开西方的专利壁垒，这个方案非常的难。”
“除此之外，这个方案也有技术本身的缺点，那就是刻蚀选择性极差，必须采用专门的刻蚀终点检测技术，并且刻蚀速率也比较低，性比价相当低。”
“而等离子刻蚀，虽然通过选择和控制放电气体的成分，可以得到较好的刻蚀选择性和较高的刻蚀速率，但是刻蚀精度却并不高，一般只能运用在大于4-5微米线条的工艺之中。”
“而我们实验里正在进行的项目，就是王总设计的反应离子刻蚀方案！”
陈凌岳一边介绍着，一边带着尹之耀等人朝着刻蚀方案项目区域而去。
听到陈凌岳这么介绍，尹之耀的神情并没有多大的变化。
论文他已经看过了，虽然有些吃惊王东来的动作迅速，直接就在自己的实验室进行验证，但如果只是这样的话，也只能算是一般，中规中矩。
尹之耀的心里想法，其实不仅是王东来能看出来，陈凌岳也能看出来。
一路无话，很快就到了地方。
作为刻蚀行业沉浸几十年的大佬，尹之耀心里不断地评价着这座实验室。
“看来银河科技还是很舍得在这方面投入的！”
等到见到实验项目的时候，尹之耀就变得无比认真起来。
眼睛一眨不眨地看着仪器。
现代的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空装置，同时还配备有自动化的刻蚀终点检测和控制装置，价格昂贵，很少有实验室会完全配备。
而现在，尹之耀的面前就有这些仪器。
这些仪器，目前也经过人为的修理调整，用来验证王东来的反应离子刻蚀方案。
说实话，这些仪器如果不是陈凌岳加入银河科技的话，恐怕还需要大半年的时间甚至更长时间才能凑齐。
至于反应离子刻蚀的原理倒也算简单。
这种刻蚀过程同时兼具物理和化学两种作用，辉光放电在零点几到几十帕的低真空下进行，硅片处于阴极电位，放电时的电位大部分降落在阴极附近，大量带电粒子受垂直于硅片表面的电场加速，垂直入射